專案改善

SEMITOOL (AMAT) RAIDER

 

 Case 1 

為因應SRD CUP在Prewet行程時因不同客戶需求, 需要做高低水壓切換,由於機台原廠設定為廠務端直接供水,無法單獨調整各個CUP水壓。

 

改善方式 :

  1. 將每個SRD CUPDI Supply迴路修改,並且增加三向閥與調壓閥使其可以擁有常壓與減壓後的兩種選擇
  2. 利用PLC擷取機台閥門開關訊號以便可以透過不同的閥開時機便於PLC做常壓與減壓的迴路選擇使機台可以藉由Recipe編輯來切換水壓無須人為作壓力切換

 

 Case 2 

部分較舊機型SRD CUPWafer Shift偵測機制為避免製程中造成Wafer損毀,增加增測機制

 

改善方式

  1. 安裝感測器以利Wafer Detect。
  2. 擷取機台訊號以便PLC作為判別時機避免全時因機構作動導致產生感測器觸發異常訊號
  3. 在偵測時機時確認異常發生後PLC會輸出訊號以利機台停機避免損壞產品

 

 Case 3 

Emergency Rinse,通常Single Wafer蝕刻機台會有Abort Recipe可以應付機台在異常時 (如流量溫度、壓力等) 立刻將Wafer進入水洗狀態 ; 但是當機台的硬體系統當機時 ( 如馬達、Software Crash) 機台會立即停止運轉致使處於在蝕刻步驟的Wafer表面殘留蝕刻液,導致Wafer可能因為Over Etching而報廢

 

改善方式 :

  1. 擷取所有液體流體閥件訊號至PLC。
  2. 偵測並計算噴酸時間如時間過長或者噴酸結束未在設定時間內水洗則強制關閉所有供酸閥件訊號並且強行開啟DI Water閥門執行水洗

 

採以獨立系統避免因機台訊號異常導致系統失常,建議可以增加UPS模組與DI Water Buffer TankCDA Buffer Tank,當廠務系統失效時此系統可以持續運作。

 

SEZ (LAM) SP4300

 

 Case 1 

Emergency Rinse, 如SEMITOOL Etching機台相同,改善差異是在緊急沖洗用的DI Water需另外新增噴嘴。

 

 Case 2 

使用高濃度H2O2配方的化學藥劑,容易造成管路堆積過多氣泡導致空管,會造成氣栓現象使液體無法流通,過多的氣泡也會導致流量計偵測異常而導致當機頻發, 因該配方蝕刻液會有揮發損耗,且蝕刻反應後會導致蝕刻率上升,另外需要以DI Water維持桶槽液位高度。

 

改善方式 :

  • 修改管路末端並以閥件控制,使Pump到達工作轉速後可以開啟閥門,使管路末端不會因氣泡累積導致蝕刻液無法流通,使每個Chamber可以正常工作。
  • 更換流量計,避免因氣泡導致流量訊號無法正常回傳機台而造成當機。
  • 新增液位計作為維持液位高度依據,並新增管路使其以慢速補水方式維持液位。

 

 Case 3 

製程需求轉換,應需求須將原來使用的蝕刻液更改為高濃度H2O2配方蝕刻液,但須保留原始設定,以便未來可以切換。

 

改善方式 :

  • 新增PLC作為兩種不同供酸模式切換設定使用,並作為與廠務端供酸訊號交握依據。
  • 新增廠務供酸使用迴路,以便連接廠務供酸。
  • 修改管路末端迴路並且閥門可以因不同供酸模式選擇啟用或關閉。
  • 更換流量計,避免因氣泡導致流量訊號無法正常回傳機台而造成當機。
  • 新增液位計作為維持液位高度依據,並新增管路使其以慢速補水方式維持液位。
  • 修改Chamber蝕刻液回收管路。( 原始模式為不回收 )

 

SEZ (LAM) SP323

 

 Case 1 

噴嘴回吸系統,因機台結構因素使其有較長的噴酸手臂且三組藥劑噴嘴在同一手臂,容易造成在蝕刻時會有其他藥液滴落造成Defect。

 

改善方式 :

  • 修改管路末端並以閥件控制,使Pump到達工作轉速後可以開啟閥門,使管路末端不會因氣泡累積導致蝕刻液無法流通,使每個Chamber可以正常工作。
  • 設計全新噴嘴與供酸手臂承載段,使原本垂直且直通的噴嘴有儲水灣,避免從噴嘴出口至閥件須整段抽空;另噴嘴末端預留真空抽取回路。
  • 新增閥門且與供酸閥做反向動作,當供酸閥開啟時關閉回吸迴路,當供酸結束保持開啟,避免其他供酸閥門開啟時該迴路有藥液滴落。
  • 新增負壓回吸腔,該會回吸腔持續保持負壓狀態,且每個噴嘴接有獨立回吸腔,保持每個噴嘴在待機狀態都能有負壓,避免滴落現象;另外回吸腔可以使水氣分離,避免真空產生器的堵塞與排出的廢氣含有藥液。
  • 新增氣動PUMP,因回吸腔需要維持負壓,當腔內的液位累積過高時,可以利用PUMP排空,避免藥液流入真空產生器中。
  • 新增PLC與電磁閥來獨力控制所有閥件。(不含原廠供酸閥)

 

SSEC(Veeco) M330X

 

 Case 1 

浸泡槽新增循環過濾功能,舊式機台無循環過濾功能,容易造成藥劑末期的廢渣濃度過高導致後續清洗效果不佳。

 

改善方式 :

  • 新增PLC與人機介面,以便獨立控制各閥件與PUMP。
  • 修改原機台介面,使其能直接於機台操作浸泡槽循環與排空換藥等功能。
  • 修改浸泡槽管路與新增濾心模組。

 

其它案件

 

 Case 1 

因PUMP組裝線需要依照各種不同需求完成配線作業,分別有3相Δ與Y接法與數種單相接法,另外也有散熱風扇是否需要安裝等差異,因產能需求不同導致一天可能會有數種組合需要組裝,且皆為線上人員手動組裝,所以需要檢測接線方式是否正確與風扇是否有壓裝。

 

改善方式 :

  • 以PLC建立資料庫方式透過條碼讀取器回傳的編號,並搜尋對應的接線方式與是否需要安裝風扇等資訊。
  • 利用HMI人機介面將馬達資訊與判定結果顯示在螢幕上,另外可以透過HMI檢視與修改資料庫內容。
  • 加裝視覺檢測器,並接收PLC回傳對應的程式編號,用以判別接線是否正確。
  • 加裝雷射感測器,檢測風扇是否正確安裝。
  • 修改機台自身的放行按鈕,系統啟動中按下放行按鈕驅動檢測系統,判別正常直接放行,判別異常會以語音方式告知錯誤狀態,並且會Show於HMI畫面中。

 

 Case 2 

光罩傳送機,因光罩上有塑膠薄膜,為避免手動拿取光罩造成損壞,利用光罩傳送機作為傳送至不同光罩盒使用。

 

改善方式

  • 以PLC與HMI人機介面作為組合, 做為系統控制使用。
  • 配合客戶場地需求設計機台尺寸。
  • 盡量以氣壓缸作為驅動需求,減少硬體複雜度以減少後續維修保養可能。

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